Festsilicon mit Gas geschäumt Donnerstag, 18.10.2012
Das Institut für Kunststoffverarbeitung (IKV) in Industrie und Handwerk an der RWTH Aachen erforscht den Einsatz von Gas zum Aufschäumen von Festsiliconkautschuken. Gas stellt als physikalisches Treibmittel eine Alternative zu den herkömmlichen chemischen Treibmitteln dar.
Als geschäumte Dichtung oder Isolierung wird
Festsiliconkautschuk z. B. im Automobilbau oder im
Baugewerbe eingesetzt. Durch das Verfahren der
Direktbegasung einer
Siliconkautschukmischung mit
Inertgasen wie Stickstoff oder Kohlendioxid bieten sich
viele
Vorteile gegenüber dem Einsatz chemischer
Treibmittel: diese Gase sind toxikologisch und ökologisch
unbedenklich und zudem noch kostengünstig. In Kombination
mit dem Werkstoff Festsilicon eröffnen sich viele neue
Einsatzmöglichkeiten, etwa in der Medizintechnik oder im
Lebensmittelsektor.
Das IKV untersucht auf einer
Labor – Extrusionsanlage alternative Verarbeitungsverfahren
zur industriellen Herstellung geschäumter Halbzeuge aus
Silicon, bei denen bislang chemische Treibmittel zum Einsatz
kommen. Bei diesem Prozess wird das gasförmige Treibmittel
direkt in den Zylinder des Extruders injiziert und im
Material gelöst. Beim Verlassen der Düse kommt es aufgrund
des Druckabfalls zur Phasentrennung und zu einem
Aufschäumen.
In ersten Untersuchungen mit
Stickstoff als Treibmittel konnten bereits einige
wesentliche
Einflussparameter auf die Profilqualität
definiert werden. In den Versuchen werden auf dem Markt
verfügbare Materialien sowie eine konventionelle
Anlagentechnik eingesetzt, um eine möglichst einfache
Übertragbarkeit auf den industriellen Maßstab
sicherzustellen.
Das Projekt wird über die AiF
(Arbeitsgemeinschaft industrieller Forschungsvereinigungen)
im Rahmen des Programms zur Förderung der industriellen
Gemeinschaftsforschung und -entwicklung (IGF) vom
Bundesministerium für Wirtschaft und Technologie gefördert.
Foto: IKV - Physikalisch geschäumtes Profil aus Festsilicon
Erstellt am 10.10.2012